受约束的基线尺寸标注

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受约束基线

受约束线性尺寸标注

Fundamentals：尺寸标注/备注

Architect、Landmark、Spotlight：
基本和尺寸标注/备注

受约束的基线模式可用于创建一系列连接的受约束尺寸标注线，每个线段用于测量从最初的起点（基点）计起的距离。

如要创建一系列受约束基线尺寸标注线：

单击“工具和模式”，然后选择一个尺寸标注标准。

单击以设置测量起点。

单击以设置第一个测量的终点。

将光标移离对象，移至所需的偏移位置。

在二维视图中，尺寸标注线预览被约束为与图层平面的 X 轴或 Y 轴平行。在三维视图中，前两次单击用于确定要在其上放置尺寸标注的平面的 X 轴；移动光标可旋转尺寸标注平面。尺寸标注平面可以平行或垂直于图层平面，或对齐正被尺寸标注的三维对象的相邻面。

单击以放置第一条尺寸标注线。

将光标移至下一条线段的端点并单击以设置其端点。

继续设置线段。

双击以结束该基线。